О благодарности Посольства КНР в РФ

В адрес Российского центра научной информации направлено благодарственное письмо Посольства КНР в РФ за достойный вклад в организацию Фотовыставки «Российско-китайское научно-техническое и инновационное сотрудничество», подготовленной совместно РЦНИ и Посольством в рамках торжественного приема по случаю Дня научно-технического работника КНР и церемонии вручения Премии Посла КНР 30 мая.

Посольство высоко оценило усилия коллектива РЦНИ по обеспечению выполнения задач на высококачественном уровне в сжатые сроки. Отмечено, что подобные проекты вносят значимый вклад в укрепление научно-технического сотрудничества между двумя странами.

РЦНИ намерен продолжать тесное взаимодействие с Посольством КНР с целью обеспечения национальных интересов России и Китая.